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使(shǐ)用IGBT功率模組清洗劑的標準與要求
返回列表 來源(yuán): 發布日(rì)期(qī): 2024.08.13

在現代電子製(zhì)造中,IGBT(絕緣柵雙(shuāng)極晶體管)模(mó)組和DBC(直接銅附著)製程的應用正變得愈發廣泛。隨著錫膏焊接工藝的推廣,對助焊劑(jì)殘留物的管理也變得尤(yóu)為重要。特(tè)別是在IGBT模組(zǔ)的製造過程中,助焊劑殘留物對綁線可靠性和封裝分層的影響變得越來越大。因此,清洗工藝的要求(qiú)也隨之提高,尤其是在IGBT模組清洗劑去除銅氧(yǎng)化物和助焊劑殘留方麵。

IGBT模組清洗劑的應用

1. 高標準的清洗工藝

與(yǔ)傳統的PCBA(印刷電路板組裝)清洗相比,IGBT模組的清洗工(gōng)藝對標準的要(yào)求更高。由(yóu)於IGBT模(mó)組內部結構複雜,包括多個焊接點和多種材(cái)料的組(zǔ)合,助焊劑在這些複雜結構(gòu)中的殘留可能對器件(jiàn)的(de)性能造成嚴重(chóng)影響。清(qīng)洗過程中需要確保去(qù)除(chú)所有(yǒu)的助焊劑殘留物,同時(shí)避免對模組造(zào)成任何損傷。為此,采用的IGBT模組清洗劑和清洗方法必(bì)須符合(hé)高標(biāo)準的清洗工藝管控要求。

2. 去除(chú)銅氧化物的挑戰

銅氧化物的(de)去除是IGBT模組清(qīng)洗中的一項關鍵任務。銅氧化物(wù)不僅影響焊接(jiē)質量,還可能導致電氣性能下降或長期穩定性問題。在IGBT模組製造中,銅與其他材料的接觸會導致氧化層的形成,這些氧(yǎng)化層在清洗過程中必須被有效去除。快速去除氧化物(wù)的能(néng)力,成為清洗劑的(de)一個重要指標。合適的清洗(xǐ)劑需(xū)要能夠高效去除氧化物,同時不會對模(mó)組材料造成(chéng)侵(qīn)蝕(shí)。

3. 助焊劑殘留物的處(chù)理

助焊劑在焊接(jiē)過程中起(qǐ)到重要作用,但其殘留物可能對(duì)器件的綁線(xiàn)和封裝分層(céng)產生不利影響。清(qīng)洗劑需要能(néng)夠徹底去除這些助焊劑殘留物,避免它們在後續的生產環節中影響器件的可靠性。優質的(de)清洗劑不僅要具備(bèi)高效的去(qù)汙能力,還需確保其清洗後不留有任何殘餘,以免對後續工藝產生影響。

IGBT模組清洗劑可在清洗(xǐ)IGBT凹槽內存在(zài)大量的錫育殘留的同時去除金屬(shǔ)界麵高溫氧化(huà)膜,更含有保護(hù)芯片獨特的材料,配方材料親水性強,清(qīng)洗速度快,無殘(cán)留,不會對銅、鋁、鎳、金、錫、矽及芯片PI層等產生腐蝕破壞。

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