拋光（guāng）液（yè）（CMP）是近年來處（chù）於前端（duān）的研磨拋光方式，大致（zhì）有二氧化矽拋（pāo）光液，氧化鈰拋光液，氧化鋁拋光液等等常見材料，當金屬材料拋光至鏡（jìng）麵效（xiào）果時，拋光液在物理和（hé）化學同時作用下（xià），在基材上麵形成頑固的固體殘留物，尤其是（shì）使用納米二氧（yǎng）化矽（矽溶膠）拋光過的鋁合金高光鏡麵，在拋光（guāng）液幹涸在基材表麵，已經是業界頭等清洗難（nán）題。選擇一款合適的拋光液（yè）清（qīng）洗劑，用水性分散原理，快速解決行業拋光液殘留的棘手問題（tí）。

目前，很（hěn）多研磨拋光加工企業，使用一些不佳的清洗劑，要不是清洗（xǐ）不了拋光（guāng）液殘留物，要不就是能（néng）清洗（xǐ）幹（gàn）淨（jìng），但金（jīn）屬（鋁合金）高光鏡麵（miàn）效果被破壞，在沒有更合適的辦法下，停留在手工清洗高光鏡麵（miàn）加工件，效率低下（xià），對員工身（shēn）體（tǐ），環境都（dōu）不利，無法實現現代化生產要求（qiú）。

拋光液清洗劑主要是針對各（gè）種切削液、研磨粉(液)、拋光粉（fěn）/液(SiO2、氧化鈰、氧化鋁)清洗，對頑固黴點、髒汙（wū）、手指（zhǐ）印等有很強的（de）清洗效果，對（duì）於金屬和陶瓷研磨、拋光後的清洗效果均為優異，也適（shì）用於玻璃材質研磨（mó）與拋光後的表麵清（qīng）洗，通過自動化超聲波（bō）設備清洗後，在不腐蝕材料的基礎上，高效率的批量化清洗鏡麵（miàn）材料上的殘留拋光液。

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