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熱門關鍵詞: 防鏽清洗劑 多功能清洗劑 金(jīn)屬表麵油汙清洗(xǐ)劑 工(gōng)業清洗劑

  • 矽晶片線切割後清洗劑
矽晶片(piàn)線切割後清洗劑

希(xī)爾矽晶片線切割後清洗劑由多種進口表麵活性、緩蝕劑及其(qí)它助劑配製而成的水(shuǐ)基清洗劑(jì),針對矽晶片切割後拋光後殘留的矽粉、殘膠,氧化(huà)物和油汙特別研製。清洗後晶片表麵無白班,花(huā)斑、腐蝕等不良,適用於(yú)各種半導體矽片與矽晶片(piàn)切割後清洗。

應用領域:主要用於太陽能電池矽晶片切割加工後的(de)清洗,以及半導(dǎo)體芯片、晶圓切割後的清洗。

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產品特點Product characteristics

矽晶片線切割後(hòu)清洗劑應用

√ 專用於矽晶片材質,潔(jié)淨度高

√ 清洗後表麵無花斑,無白斑

√ 清洗效(xiào)果好,無殘(cán)留,不影響導電(diàn)性能

√ 原液濃(nóng)度高,槽液壽(shòu)命長,可循環使用

√ 水基安全,低泡型,易漂洗,無殘(cán)留

√ 符合voc指標要求和歐盟RoHS認證

專用矽晶片清洗  無花斑白斑  易(yì)漂洗  環保無味不傷手

理化指標Physical and chemical indicators

外觀 無(wú)色至微黃色液體 密(mì)度 1.00-1.10g/L
pH 10.0-11.5(工作液) 安全 不可燃,無(wú)腐蝕
環(huán)保(bǎo) 無磷,不含鹵素,符(fú)合歐盟RoHS要(yào)求

工藝流(liú)程Process flow

工藝流(liú)程

注意事項Precautions for use

  • 使用(yòng)方式

    恒溫清洗/超聲波清洗(xǐ)/平麵線清洗

  • 使用方(fāng)法

    按比例稀釋成工作液後,加熱至40-60度,超(chāo)聲(shēng)波清洗4-6分鍾。對於重汙垢工件,延長清洗時間或使用多槽多次方式徹(chè)底清洗幹淨。

  • 工作液維護

    1、定期檢查槽液溫度、液位,及時補水及相(xiàng)應比例補加原液。

    2、按規定時(shí)間定期更換槽液。

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希(xī)爾手機玻璃清洗劑對(duì)於玻璃蝕(shí)刻、精雕後、強(qiáng)化前後、鋼化後、絲印後(hòu)、平磨後、鍍膜前後等工序均可(kě)清洗,主要是清洗玻(bō)璃上(shàng)的切削液、硝酸鉀、拋光粉/液、油墨、灰塵、黴點、指(zhǐ)紋,以及研磨粉以及玻(bō)璃粉等髒汙,清(qīng)洗(xǐ)良率高達99.99%以上,潔淨能力強、成本低,是一款環保、水(shuǐ)基型玻璃清洗劑產品!應用領域:適用各種光學(xué)玻(bō)璃、手機玻(bō)璃蓋板、LCD、光學鏡片、藍寶石、ITO玻璃、鏡頭、鏡片(piàn)、攝像頭,顯示器、液晶玻璃等產品。

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