最（zuì）常見（jiàn）的金屬表麵汙染物（wù）種類包括顆粒、薄膜和分子汙染物,它們可以是有（yǒu）機或無機汙染物、離子汙染物（wù）或者微生物（wù）汙染物。其（qí）它種類的（de）汙染物還包括金屬、有毒和有害（hài）化學（xué）物質（zhì）,放射性物質,以及被確認存在於特定行（háng）業表麵上的生物物質等。金屬（shǔ）表麵（miàn）汙染可以有多種形式,並且可（kě）以以不同的狀態存在於（yú）表麵上（shàng）。常見的汙染（rǎn）源包括加工油和（hé）潤滑脂、液壓機液體（tǐ）和清（qīng）洗液、黏合劑、蠟、人為汙染物（wù）和微粒等。此（cǐ）外,來源眾多的其它（tā）化學汙染物也可能會汙染表麵典（diǎn）型的清洗規（guī）格是（shì）根據清（qīng）洗後表麵殘留的特定或特有汙染物的（de）數量來確定的（de）在精密技術領域,清潔度等級通常是專（zhuān）門針對顆粒製定的,也可以針（zhēn）對烴類汙染物製定,用非揮發殘留（liú）物(NVR)來表示例如,世界各地的民用和軍（jun1）用航天局,其空間硬件表麵清潔度的（de）標準特指單位麵積內微米級顆粒的數量和每平方厘米範圍內NVR的微克數。清潔度等級是根據行（háng）業內（nèi）建立的Iet-std-CC1246D汙染水（shuǐ）平標準而製定的,對顆粒分為1~1000級,對NVR則分為（wéi）AA5級(0.1ng/cm2)至J級(0.025mg/cm2)在許多商業應用中,精密清潔度的標準被（bèi）定義為有機汙染物含量<10ug/cm2,盡管在許多應用中要求為1g/cm2。這些 金屬表麵處理清洗劑清潔度（dù）等級通常是部件的功能所期望的或者要求達到的,相關部件包括金屬裝置、電子組件、光學和激光元件、精密機械零件和計算機部件等。